常用等离子体类型及气体选择

• 辉光放电等离子体：适用于低压环境，气体选择多样（如O₂、Ar、N₂、CF₄等）。

• O₂：用于氧化刻蚀，去除有机物。

• Ar：用于物理轰击，清洁表面。

• N₂：用于氮化处理，提高表面硬度。

• CF₄：用于氟化刻蚀，制备疏水表面。

• 大气压等离子体：无需真空系统，适合大规模生产，常用气体为He、O₂/Ar混合气体。

选择依据：
根据处理目标选择气体类型，例如清洁表面优先选择O₂或Ar，刻蚀处理选择CF₄，表面改性选择N₂或NH₃。